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精密研磨拋光系統
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- 更新時(shí)間：2024-12-05
Logitech PM5精密研磨拋光系統是帶有一個(gè)工作站的臺式機，適用于科學(xué)研究水平的研磨和拋光，能夠完成4英寸及以下尺寸樣品的小批量處理。具有加工樣品*性高、規格水平高、表面光潔等特點(diǎn)。
Logitech PM5精密研磨拋光系統是帶有一個(gè)工作站的臺式機，適用于科學(xué)研究水平的研磨和拋光，能夠完成4英寸及以下尺寸樣品的小批量處理。
具有加工樣品*性高、規格水平高、表面光潔等特點(diǎn)。
精密研磨拋光系統特點(diǎn)：
1、完善的控制系統
在半導體、光電、光學(xué)以及地質(zhì)等應用領(lǐng)域，Logitech PM5是值得信賴(lài)的選擇，典型的應用包括：晶片背減、光纖及波導器件制備、激光棒拋光、MEMS等。無(wú)論是對何種高質(zhì)量表面平整度控制的需求，PM5均能給予用戶(hù)滿(mǎn)意的處理效果。
研磨/拋光的所有功能，包括盤(pán)轉速、擺臂設定、滴料速度，均顯示在操作控制顯示屏，通過(guò)操縱桿對操作控制顯示屏的參數進(jìn)行設定。
2、自動(dòng)化功能增強
機器運行內置計時(shí)器，在無(wú)人看管時(shí)可以設定計時(shí)器，計時(shí)器時(shí)間設定范圍0-10小時(shí)，在處理材料完成時(shí)機器自動(dòng)停止（拋光狀態(tài)下報警不停機），控制系統向操作員發(fā)出蜂鳴提醒。
為了進(jìn)一步提高易用性，Logitech PM5部分配備真空管道，以聯(lián)通真空裝置，VS2真空系統單元獨立放置，在提供真空系統同時(shí)具有過(guò)濾防污染的功能?？梢钥吹?/span>，Logitech的全套備件配置使用為用戶(hù)帶來(lái)了足夠大的加工靈活性。
Logitech PM5夾具具有在線(xiàn)監測功能，可實(shí)時(shí)顯示樣品處理的去除量，監測精度1um；為適應各種大小尺寸的樣品處理，夾具對晶片作用壓力可以連續調節，通過(guò)增加夾具壓力塊，壓力調節范圍zui大可達0.1 - 7Kg；夾具zui大處理樣品尺寸4英寸。
3、直觀(guān)的操作控制系統
快速、高效的研磨/拋光盤(pán)，便于拆卸，方便用戶(hù)在不同的研磨過(guò)程之間的快速轉換，以及研磨和拋光工藝的變換。這種靈活性使PM5成為實(shí)驗室空間有限的情況下的首要選擇。
Logitech PM5具有耐化學(xué)腐蝕的配置，適合在腐蝕性物質(zhì)環(huán)境中使用，如砷化鎵拋光中常常使用的Chemlox拋光液。耐腐蝕的設計保障了系統在酸堿工作環(huán)境中運行。
4、精準的滴料系統
磨料自動(dòng)填料系統通過(guò)一個(gè)可調導料槽，確保精準的控制料液流從料桶滴入研磨盤(pán)或拋光盤(pán)。滴料的控制設計，具有很高的經(jīng)濟性，特別適合多樣化研究使用。
此外，可拆卸的料液托盤(pán)導出廢料，使其流入廢料桶，從而保障設備安全穩定的長(cháng)時(shí)間持續運行，同時(shí)減輕設備的清理工作。
5、完整的參數控制，確保結果*
研磨/拋光的工藝過(guò)程中，盤(pán)的表面情況會(huì )在一定程度上反饋在樣品表面，通過(guò)控制研磨盤(pán)的盤(pán)面型從而提高樣品平整度；通過(guò)保持拋光盤(pán)的表面狀態(tài)從而提高樣品表面質(zhì)量。
為獲得*結果，設備往復運動(dòng)的速度和擺幅可以精確的控制樣品處理效果，從而提高了結果的高重復性和高*性。
技術(shù)規格：
